產品名稱：氮化鉿（HfN）
規(guī)格：0.8-10um（D50）
形貌：不規(guī)則
顏色：黑灰色
特點：耐高溫、耐腐蝕、耐磨損、抗熱震、密度低且硬度高，優(yōu)異的耐熱性和力學性能
用途：航空航天、能源、電子器件等領域
中文名稱： 氮化鉿
英文名稱：hafnium nitride
化學式： HfN
外觀：土黃色粉末
熔點：3310℃
顯微硬度：16GPa
相對分子質量：192.50
密度/（g/cm3）：10.85/cm3
比熱容/[J/（kg.K）]：209.2
熱導率/[W/（m.K）]：11.715
性質：相當穩(wěn)定，但易為王水、濃硫酸、氫氟酸所腐蝕。
1. 高硬度：氮化鉿的硬度非常高，比鋼鐵和鎢還要高。
2. 高熔點：氮化鉿的熔點非常高，約為3310℃。
3. 高導電性：氮化鉿是一種良好的導體，在高溫和高壓條件下也能保持較好的導電性能。
4. 耐腐蝕性：氮化鉿在高溫和氧化氣氛中表現(xiàn)出很好的穩(wěn)定性，不易被腐蝕。
5. 高溫穩(wěn)定性：氮化鉿在高溫下也能保持穩(wěn)定，因此被廣泛應用于高溫材料的制備。
6. 耐磨性：氮化鉿在高溫和高壓下具有出色的耐磨性能，因此被廣泛應用于切削工具和磨料的制備。
7. 化學穩(wěn)定性：氮化鉿在許多化學環(huán)境下都非常穩(wěn)定，因此可以用于化學反應器和其他需要穩(wěn)定性材料的應用。
制備工藝：
1. CVD法
CVD法是一種常用的制備氮化鉿的方法，該方法將含鉿原料和含氮原料在高溫下反應，生成氮化鉿薄膜。
2. PVD法
PVD法是一種真空鍍膜技術，可將鉿元素和氮元素在高溫下蒸發(fā)并沉積在基底上形成氮化鉿薄膜。
3. 熱壓燒結法
將含鉿和含氮的粉末混合后，在高溫高壓下進行燒結，生成氮化鉿塊體。
產品應用:
1. 電子領域
氮化鉿是一種優(yōu)異的電子材料，可用于制造高速電子器件和集成電路。相較于傳統(tǒng)的硅材料，氮化鉿具有更高的電子遷移率和耐高溫性能，能夠在高溫、高頻率的條件下工作。因此，氮化鉿在高溫超導材料、微波器件、光電子器件等領域有著廣泛的應用。
2. 航空航天領域
氮化鉿具有優(yōu)異的耐磨性、耐腐蝕性和高溫性能，可用于制造航空發(fā)動機的零部件。在高溫、高壓的條件下，氮化鉿能夠保持穩(wěn)定的性能，減少磨損和腐蝕，提高發(fā)動機的效率和壽命。
3.耐磨材料
HfN是一種熔點高，高硬度，耐磨，抗氧化的新型硬質材料，可用于技術和裝飾領域的保護層，刀具的抗磨損外膜以及化學惰性膜和耐高溫的保護膜等。
存儲方法：本品應密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發(fā)生團聚，影響分散性能和使用效果，另應避免重壓，勿與氧化劑接觸，按照普通貨物運輸。
